哈佛大學聯合阿爾貢國家實驗室開發出憑據MEMS芯片的超等透鏡
集成在MEMS掃描器上的憑據超外表技術的平面透鏡（超等透鏡），左圖爲掃描電鏡圖片，右圖爲光學顯微成像圖片
。在MEMS器材上集成超等透鏡，將有助于整合高速動態操控和准確波陣面空間操控優勢，打造光操控新模型
现在，透镜技術在各个领域都获得了长足的发展，从数码相机到高带宽光纤，再到激光干預仪引力波天文台 LIGO的仪器设备等
。现在，使用规范的计算机芯片制作技術开发出了一种新的透镜技術，或將取代古板曲面透鏡雜亂的多層結構和幾許結構
。
與古板曲面透鏡差別，憑據超外表光學納米資料的平面透鏡相對更輕
。當超外表亞波長納米結構組成某種重複圖紋時，它們便能夠模仿能夠折射光線的雜亂曲度，可是體積更小，聚光才華更強，一起還能削減失真
。不過，大部分這種納米結構器材都是靜態的，功效性有限
。
据麦姆斯咨询报导，超级透镜技術开辟者——美国哈佛大学使用物理学家Federico Capasso，和MEMS技術前期开发者——美国阿尔贡国家实验室纳米制作和器材小组负责人Daniel Lopez，他们俩来了一番脑筋风暴，为超级透镜增加了运动操控才華，例如快速扫描和光束操控才華，或将开辟超级透镜新使用
。
Capasso和Lopez联手开发了一款器材，在MEMS上集成了中红外光谱超级透镜
。他们将该研究結果宣布在了本周的《APL Photonics》期刊上
。
MEMS是一種結合微電子和微機械的半導體技術，在盤算機和智能手機中能夠找到，包括傳感器、執行器和微齒輪等機械微結構
。MEMS現在險些無處不在，從智能手機到汽車寧靜氣囊、生物傳感器材以及光學器材等，MEMS能夠憑借典範盤算機芯片中的半導體技術完成制作
。
Lopez說：“在一個矽芯片上高密度集成數千個獨立操控的MEMS透鏡器材，能夠完成光學領域史無前例的光操控和操作
。”
研究人員在一塊SOI絕緣體上矽（2微米頂部器材層、200納米埋葬氧化層以及600微米襯底層）上，采用規範光刻技術制作了這款超外表透鏡
。然後，他們將這款平面透鏡與一個MEMS掃描器（實質上是一個偏轉光線用于高速光路長度調制的微鏡）的中心平台對齊，經過聚集細小鉑片將它們牢固在一起，終究將該平面透鏡裝配在MEMS掃描器上
。
“我们这款集成超外表透镜的MEMS原型器材，能够经过电操控改动平面透镜的旋转角度，在几度规模内进行焦点扫描，” Lopez介绍说，“別的，这款集成超外表平面透镜的MEMS扫描器看法验证产品，还能够扩展至可见光及其它光谱规模，开辟更广泛的潜在使用，例如根据MEMS的显微体系、全息和投影成像、LiDAR（激光雷达）扫描器和激光打印等
。”
在静电驱动情况下，其MEMS平台可操控两个正交轴偏向的透镜运动角度，使平面透镜在每个偏向约9度规模内进行焦点扫描
。 研究人员估计，其聚集功率约为85％
。
“這種超等透鏡在未來能夠使用半導體技術完成大規模量産，或將在廣泛的使用領域取代古板型透鏡，”Capasso彌補說
。